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  • 08
    2025-11
    材質(zhì)匹配是蒸發(fā)臺(tái)配件與蒸發(fā)臺(tái)坩堝兼容性的核心基礎(chǔ)。蒸發(fā)臺(tái)配件的材質(zhì)需與蒸發(fā)臺(tái)坩堝的材質(zhì)特性相契合,尤其在高溫蒸發(fā)工況下,需避免因材質(zhì)熱膨脹系數(shù)差異過(guò)大導(dǎo)致的結(jié)構(gòu)變形,或因化學(xué)特性沖突產(chǎn)生的雜質(zhì)污染。
  • 08
    2025-11
    注入機(jī)離子源燈絲電壓適配閾值的確定需結(jié)合核心工況需求。不同材質(zhì)的注入機(jī)離子源燈絲,其耐高溫特性與電流承載能力存在差異,電壓閾值需與燈絲材質(zhì)特性相契合,避免因電壓過(guò)高導(dǎo)致燈絲過(guò)度損耗,或電壓過(guò)低影響離子發(fā)射強(qiáng)度。
  • 07
    2025-11
    材質(zhì)適配是注入機(jī)離子源配件選型的核心標(biāo)準(zhǔn)之一。離子源弧光室長(zhǎng)期處于高溫、高真空的工作環(huán)境,注入機(jī)離子源配件的材質(zhì)需具備優(yōu)異的耐高溫性、化學(xué)穩(wěn)定性與抗損耗能力,避免在協(xié)同運(yùn)行中因材質(zhì)兼容問(wèn)題產(chǎn)生雜質(zhì)或結(jié)構(gòu)變形,確保離子傳輸通道的潔凈與通暢。
  • 07
    2025-11
    日常清潔養(yǎng)護(hù)是半導(dǎo)體設(shè)備配件維護(hù)的基礎(chǔ)環(huán)節(jié)。需定期清除注入機(jī)離子源配件及銜接部位的殘留沉積物,重點(diǎn)關(guān)注離子源弧光室密封處、蒸發(fā)臺(tái)行星鍋傳動(dòng)結(jié)構(gòu)等易積污區(qū)域,選用適配的清潔試劑與工具...
  • 07
    2025-11
    丹東半導(dǎo)體設(shè)備的維護(hù)需注重清潔養(yǎng)護(hù)的精細(xì)化。日常使用后應(yīng)及時(shí)清除設(shè)備內(nèi)部及配件銜接處的殘留雜質(zhì),尤其要關(guān)注注入機(jī)離子源燈絲、蒸發(fā)臺(tái)行星鍋等易積污部件的清潔,避免雜質(zhì)堆積影響傳動(dòng)精度與離子傳輸效率。
  • 07
    2025-11
    丹東離子源配件的維護(hù)需注重清潔養(yǎng)護(hù)的規(guī)范性。日常使用后應(yīng)及時(shí)清除配件表面的殘留沉積物,避免雜質(zhì)堆積影響離子傳輸效率,同時(shí)需關(guān)注與離子源弧光室銜接部位的密封狀態(tài),防止因密封老化導(dǎo)致的性能衰減。
  • 07
    2025-11
    蒸發(fā)臺(tái)坩堝的材質(zhì)特性需與注入機(jī)離子源配件的工作環(huán)境相契合,比如在高溫、高真空工況下,需確保蒸發(fā)臺(tái)坩堝的耐高溫性、化學(xué)穩(wěn)定性與離子源弧光室的工作要求保持一致,避免因材質(zhì)兼容問(wèn)題引發(fā)工藝故障。
  • 04
    2025-11
    排查需優(yōu)先關(guān)注傳動(dòng)系統(tǒng)的狀態(tài)。蒸發(fā)臺(tái)行星鍋的轉(zhuǎn)速傳遞依賴(lài)齒輪、皮帶等傳動(dòng)部件,若齒輪嚙合處存在磨損、間隙過(guò)大,或皮帶松動(dòng)、打滑,會(huì)直接導(dǎo)致轉(zhuǎn)速波動(dòng)。
  • 04
    2025-11
    離子源弧光室的核心應(yīng)用體現(xiàn)在氣體電離過(guò)程中。通過(guò)施加特定電壓激發(fā)弧光放電,使通入的工藝氣體(如硼、磷等摻雜氣體)電離形成等離子體,為后續(xù)離子加速、篩選提供基礎(chǔ)。
  • 04
    2025-11
    蒸發(fā)臺(tái)配件的應(yīng)用效果與坩堝材質(zhì)的適配性密切相關(guān)。在半導(dǎo)體芯片制造中,若蒸發(fā)材料為鋁、銅等常規(guī)金屬,石墨坩堝能滿(mǎn)足工藝對(duì)溫度均勻性的要求;若涉及氧化物、硫化物等腐蝕性材料,陶瓷坩堝的化學(xué)穩(wěn)定性可發(fā)揮優(yōu)勢(shì)...