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  • 27
    2025-10
    材質(zhì)適配是基礎前提。注入機離子源配件的材質(zhì)選擇需與離子源燈絲的特性形成互補,例如離子源弧光室的內(nèi)壁材質(zhì)應具備良好的耐高溫性與抗濺射能力,避免燈絲工作時產(chǎn)生的粒子附著或侵蝕,確保電流傳導穩(wěn)定。
  • 27
    2025-10
    在清潔維護方面,需遵循規(guī)范化流程,采用專用清潔試劑與工具,輕柔清除離子源弧光室內(nèi)壁的沉積物與雜質(zhì),避免刮傷精密表面影響離子發(fā)射效率,這是半導體設備配件維護中需重點關注的細節(jié)。
  • 24
    2025-10
    在核心工藝應用中,丹東半導體設備的參數(shù)調(diào)控靈活性與運行穩(wěn)定性尤為突出。以薄膜沉積與蝕刻工序為例,該類設備能夠精準匹配不同晶圓材質(zhì)的工藝需求,通過優(yōu)化的結構設計與控制系統(tǒng)...
  • 24
    2025-10
    材質(zhì)適配是丹東離子源配件的重要應用特性。光伏電池摻雜常用硼、磷等雜質(zhì)離子,對應的氣體或固態(tài)原料在電離過程中會產(chǎn)生高溫、腐蝕性環(huán)境,丹東離子源配件采用耐高溫、抗腐蝕的特種材質(zhì)加工而成...
  • 24
    2025-10
    材質(zhì)適配性是蒸發(fā)臺坩堝的核心應用價值之一。半導體封裝鍍膜常用金、鋁、鈦等金屬及合金材料,不同材料的熔點、化學特性存在差異,蒸發(fā)臺坩堝需采用耐高溫、抗腐蝕的特種材質(zhì)...
  • 24
    2025-10
    轉(zhuǎn)速參數(shù)是蒸發(fā)臺行星鍋的核心技術指標之一,其適配標準需結合工件尺寸與鍍膜材料的蒸發(fā)速率。不同直徑的工件需對應不同的轉(zhuǎn)速區(qū)間,轉(zhuǎn)速過快易導致薄膜沉積過薄,過慢則可能造成局部沉積過厚...
  • 23
    2025-10
    離子源弧光室的核心作用之一是提供穩(wěn)定的等離子體生成環(huán)境。在高真空工況下,弧光室通過電場激發(fā)通入的摻雜氣體(如硼、磷等),使氣體分子電離形成等離子體,這一過程需依托弧光室的密封結構與耐高溫材質(zhì)...
  • 23
    2025-10
    高真空適配性是蒸發(fā)臺配件的核心應用要求之一。光伏電池鍍膜需在高真空環(huán)境下進行,以避免空氣中的雜質(zhì)粒子影響薄膜純度,因此真空密封類蒸發(fā)臺配件需具備穩(wěn)定的密封性能,減少真空泄漏風險...
  • 23
    2025-10
    注入機離子源燈絲通電后通過電阻加熱達到特定溫度范圍,進而穩(wěn)定發(fā)射熱電子,這一過程需依托燈絲材質(zhì)的耐高溫特性與結構設計合理性。熱電子在離子源內(nèi)部電場作用下加速運動...
  • 23
    2025-10
    從技術應用層面來看,進口注入機離子源配件經(jīng)過長期市場驗證,在先進制程適配性、長期運行穩(wěn)定性等方面積累了較多實踐數(shù)據(jù),更適合對工藝精度要求較高的14nm及以下先進制程場景...